Καθοδηγούμενες από τις απαιτήσεις που υπάρχουν στην Κίνα, αλλά και την εμπειρία των χρηστών, οι αρχές προστασίας των πνευματικών δικαιωμάτων θα βελτιώσουν περαιτέρω την ποιότητα και την αποτελεσματικότητα του ελέγχου των διπλωμάτων ευρεσιτεχνίας, δήλωσε ο Σεν Τσανγκιού, επικεφαλής της NIPA, στη διάρκεια μιας πρόσφατης διάσκεψης για τις εφευρέσεις.
Κατά την τρέχουσα περίοδο, ο κύκλος ελέγχου μίας αίτησης για ένα δίπλωμα ευρεσιτεχνίας υψηλής αξίας, είναι περίπου 13,3 μήνες. Ο μέσος κύκλος ελέγχου για μία αίτηση γενικής πατέντας ευρεσιτεχνίας, είναι περίπου 19.1 μήνες, όπως δείχνουν τα στοιχεία της NIPA.
Οι αρχές για την προστασία των πνευματικών δικαιωμάτων θα επιταχύνουν την έξυπνη αναβάθμιση του συστήματος ελέγχου και θα υλοποιήσουν διαφοροποιημένες πολιτικές ελέγχου με αρχές και μεθόδους καινοτομίας, δήλωσε ο Σεν.
